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等離子清洗機使用操作的技術(shù)分享闡明

更新時(shí)間:2017-09-28       點(diǎn)擊次數:1580
     等離子清洗機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現一定的真空度,隨著(zhù)氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(cháng),受電場(chǎng)作用,等離子清洗機發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿(mǎn)足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì )發(fā)出輝光,故稱(chēng)之為輝光放電處理。
    等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看,等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
    等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造,可以確信,沒(méi)有等離子清洗機及其清洗技術(shù),就沒(méi)有今日這么發(fā)達的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機及其清洗技術(shù)也應用在光學(xué)工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上,而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù),比如說(shuō)光學(xué)元件的鍍膜、延長(cháng)模具或加工工具壽命的抗磨耗層,復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造,超微機械的加工技術(shù)、人工關(guān)節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步,才能開(kāi)發(fā)完成。等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域,該領(lǐng)域結合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應,此為典型的高科技產(chǎn)業(yè),需跨多種領(lǐng)域,包括化工、材料和電機,因此將挑戰性,也充滿(mǎn)機會(huì ),由于半導體和光電材料在未來(lái)得快速成長(cháng),此方面應用需求將越來(lái)越大。
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