關(guān)于勻膠旋涂?jì)x你了解這些么？
更新時(shí)間：2021-03-12 點(diǎn)擊次數：994
勻膠旋涂?jì)x在勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì )對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉的階段，光刻膠就開(kāi)始干燥（溶劑揮發(fā)）了，所以控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。
在許多情況下，勻膠旋涂?jì)x基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力（twisting force），這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi)，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
勻膠旋涂?jì)x的控制和顯示：
1.非常方便設定處理速度和加速度程序段；可設置順序循環(huán)控制；
2.顯示精度控制在設定值的0.006%以?xún)龋?/div>
3.操作者可隨時(shí)隨地自由實(shí)現人機交互；
設備運轉進(jìn)程中，可隨意向前，向后或者往返跳躍操作步驟；循環(huán)指令，并可以重復操作；在運轉模式下也可以實(shí)時(shí)改變速度和加速度；包含PC程序端接口；可視化操作模型（化學(xué)試劑，傳感器所見(jiàn)即所得的操作界面）；故障報警裝置（可形象顯明故障發(fā)生位置）；加速度的小分辨率為1RPM/S；寬廣的速度設定范圍（1~12000RPM）。
勻膠旋涂?jì)x設備，包括弧形板，儲膠區，導流板，支撐柱和固定板，弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同，弧形板的一側設置有儲膠區，與其對應的另一側設置有導流區，弧形板頂部中心設置有兩個(gè)相同的支撐柱，任意支撐柱頂部設置有螺母，任意支撐柱和螺母之間設置有固定板。任意支撐柱外壁有螺旋紋路，任意支撐柱和螺母螺旋連接。勻膠旋涂?jì)x設備有益之處在于：能夠將膠液部勻，防止多余的膠液溢出，方便清潔，延長(cháng)使用壽命，提高涂膠機工作效率。
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