紫外臭氧清洗機的工作流程
更新時(shí)間：2023-03-21 點(diǎn)擊次數：1046
紫外臭氧清洗機用于鍵合表面活化等試驗，樣品臺高度可調，通過(guò)調節燈與樣品之間的間距，可以合理定位樣品高度和位置，位置可鎖定。
紫外臭氧清洗機是通過(guò)有機化合物的光敏氧化作用去除附著(zhù)在工件表面的有機物質(zhì)，經(jīng)過(guò)紫外臭氧清洗機清洗后的工件表面可達到原子級清潔度。通過(guò)高于絕大多數有機物結合能量的紫外光線(xiàn)，發(fā)出波長(cháng)為185nm和254nm的紫外線(xiàn)，空氣中的氧分子吸收紫外光后，會(huì )產(chǎn)生臭氧，臭氧可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有較強的氧化性，可切斷碳氫化合鍵，生成水和二氧化碳等可揮發(fā)氣體，從而去除工件表面的污染物。
工作條件：
工作環(huán)境溫度：5-35℃。
工作環(huán)境濕度：≤70%。
該設備在處理ITO,FTO，光學(xué)玻璃，半導體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機物，可以提高基片表面附著(zhù)力或者改善表面親水性，在襯底涂層或者鍍膜，基片鍵合等方面有廣泛應用。
本公司提供的CIF UVO13紫外臭氧清洗機具有自動(dòng)補償功能，自動(dòng)恒定光強光密度，不會(huì )因為低壓汞燈老化光強衰減影響清洗效果。數字倒計時(shí)顯示清洗時(shí)間，1-999分鐘之間可自行設置清洗時(shí)間。自動(dòng)記錄之前清洗參數設置?？呻S時(shí)手動(dòng)中斷處理過(guò)程。
地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028