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勻膠旋涂?jì)x的工作流程概述

更新時(shí)間:2022-09-08       點(diǎn)擊次數:1345
勻膠旋涂?jì)x是把膠均勻地涂在基片上的一種機器。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

勻膠旋涂?jì)x的勻膠過(guò)程包括滴膠,高速旋轉以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。

1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。

2、勻膠轉速是勻膠過(guò)程中重要的因素?;霓D速不僅影響到作用于光刻膠的離心力,而且還關(guān)系到緊挨著(zhù)基片表面空氣的*湍動(dòng)和基片與空氣的相對運動(dòng)速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結果。隨著(zhù)光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),粘度越來(lái)越大,直到基片旋轉作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上,膠膜厚度不會(huì )隨勻膠時(shí)間延長(cháng)而變薄。

3、勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì )對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉的第一階段,光刻膠就開(kāi)始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以準確控制加速度很重要。

4、勻膠過(guò)程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì),而且還取決于勻膠過(guò)程中基片周?chē)目諝鉅顩r。光刻膠的干燥速度與此相似,也受周?chē)h(huán)境條件的影響。勻膠的時(shí)候,減小基片上面的空氣的流動(dòng),以及因空氣流動(dòng)引起的湍流,或者至少保持穩定也是十分重要的。

本公司提供的CIF勻膠旋涂?jì)x有多重安全保護。電磁安全開(kāi)關(guān),蓋子打開(kāi)卡盤(pán)停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開(kāi)傷人;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,*大限度保證實(shí)驗人員安全。

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